RDI-2000 Reaaliaikainen kaasunpoisto- ja erotusjärjestelmä: Perinteisten neste-neste-erotuskipukohtien ratkaiseminen

Miksi perinteinen nesteen{0}}erotus hidastaa kokeitasi?

Tarkoissa{0}}kentissä, kutenkemiallinen synteesi, biofarmaseuttiset valmisteet, jaelektroniset materiaalit, nesteen{0}}erotuksen piilotetut ongelmat ovat vaivanneet T&K:ta ja tuotantoa pitkään. Näitä "tehokkuuden pullonkauloja" ovat mm.

Itsepäiset jäännöskuplatEpätäydellinen nestekaasunpoisto jättää kuplia, mikä aiheuttaa epätasaista sekoittumista, estynyttä virtausta, epänormaalia reaktionopeutta ja vaurioittaa tarkkuuslaitteiden suorituskykyä.

Hallitsemattomat happialtistuksen riskitHappi laukaisee aktiivisten aineosien oksidatiivisen hajoamisen. Perinteiset avoimet erotus-/kaasunpoistomenetelmät eivät pysty säätelemään happitasoja, mikä johtaa epätäydelliseen kaasunpoistoon tai toissijaiseen hapen sisääntuloon-ilman reaaliaikaista-seurantaa.

Ympäristön vaihteluiden häiriöLämpötilan muutokset aiheuttavat nesteen laajenemista/supistumista, mikä johtaa erotustilavuuden poikkeamiin ja näytteen stabiilisuuden heikkenemiseen.

Nämä ongelmat eivät ainoastaan ​​viivyttele kokeita, vaan myös tuhlaavat kalliita{0}}näytteitä, mikä haittaa tutkimusta ja tuotantoa.

Ratkaisu: RDI-2000 – kaasunpoisto + erotus + lämpötilan/hapen säätö yhdessä vaiheessa

Vastataksemme näihin alan haasteisiin käynnistimmeRDI-2000 reaaliaikainen kaasunpoisto- ja erotusjärjestelmä-innovatiivinen ratkaisu, joka yhdistää kolme ydintoimintoa: kaasunpoisto, nesteen-erotus ja ympäristön hallinta. Se eliminoi kuplien ja hapen häiriöt koko prosessin ajan ja määrittelee uudelleen korkeat-tarkkuuserottelustandardit.

3 RDI-2000:n teknologista läpimurtoa

1. Samanaikainen kaasunpoisto ja erotus – vähän kuplaa, vähän liuennutta happea

Perinteiset laitteet vaativat esi{0}}kaasunpoiston (nesteiden altistaminen ilmalle aiheuttaen toissijaisen ilman sisäänoton). RDI-2000 käyttäädynaaminen kaasunpoisto-kytketty erotustekniikka, pitäen näytteet matalassa-kuplassa, vähän-liuenneessa happitilassa erotuksen aikana. Liuenneen hapen tasot pysyvät stabiilisti arvossa alle 1,0 mg/l.

2. Vakiolämpötila ja happi – täysi-prosessin alhainen-happisuoja

Tarkka lämpötilan säätö: Sisäänrakennettu-kaasunpoistolämmitystoiminto + valinnainen ulkoinen vakiolämpötilainen kylpy, joka varmistaa näytteen stabiilisuuden. Välttää lämpötilan vaihteluiden aiheuttamat tilavuuden muutokset ja epävakauden.

Reaaliaikainen happivalvonta-: Valinnaiset kaksikanavaiset{0}}liuenneen hapen anturit korkean-tarkkuuden valvontaan. Järjestelmä havaitsee automaattisesti happitasot ja kierrättää kaasunpoistoa ylläpitääkseen asetetun happialueen, joka on ihanteellinen happiherkille näytteille.

3. Millilitra-tason määrällinen annostelu – erittäin tarkka, kaksikanavainen-kanavavaihtoehto

Varustettu aerittäin{0}}tarkkuusruiskupumppuja älykäs algoritmiohjaus. Tukee joustavia annostelualueita (1–10 ml) ±1 % tarkkuudella (@10 ml). Valinnainen kaksikanavainen-määritys parantaa annostelutehoa.

RDI-2000 soveltuvat skenaariot

Laboratoriotutkimuksesta ja -kehityksestä tuotantolinjoihin RDI{1}}2000 kattaa koko-ketjun korkean tarkkuuden tarpeet:

Mikrofluidiset sirut: Matala-happireagenssien annostelu lääkkeiden annostelujärjestelmiin, suuri-läpäisyteho seulonta ja geenisekvensointisirut.

Polttokennot: Alhainen-happiannostelu elektrolyyteille litiumakkumateriaalien tutkimuksessa, kehityksessä ja tuotannossa.

Sähkökemialliset tunnistussirut: Alhainen-hapen annostelu elektronivälittäjille (esim. kaliumferrisyanidi K3[Fe(CN)₆]).

Koe RDI-2000: Älykkäämpi annostelu, luotettavammat tulokset

RDI-2000 on enemmän kuin päivitetty työkalu-se on "ympäristönhoitaja" erittäin tarkkoihin kokeisiin. Kaasunpoistosta annosteluun ja lämpötilan/hapen säätöön jokainen yksityiskohta on suunniteltu suojaamaan näytteitäsi.

Paranna tuotekehitys- ja tuotantotehokkuuttasi RDI-2000:lla jo tänään!